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1
Oberflächentechnologie mit Niederdruckplasmen: Beschichten und Strukturieren in der Mikrotechnik
Springer Berlin Heidelberg
Dr. Gerhard Franz (auth.)
abb
elektronen
ionen
plasma
feld
entladungen
entladung
phys
abschn
ätzrate
etching
bias
abhängigkeit
substrat
dagegen
oberfläche
schild
elektrode
gleichung
stöße
verhältnis
welle
wellen
wobei
ergibt
glühzone
hohen
größer
geschwindigkeit
mhz
niedrigen
stark
wesentlich
hohe
sputtern
beobachtet
deswegen
argon
atome
druck
nahezu
bereich
deutlich
energien
techno
proportional
ionisierung
ecr
magnetfeld
negativen
Année:
1994
Langue:
german
Fichier:
PDF, 9.80 MB
Vos balises:
0
/
0
german, 1994
2
Kalte Plasmen: Grundlagen, Erscheinungen, Anwendungen
Springer Berlin Heidelberg
Dr. rer. nat. Gerhard Franz (auth.)
elektronen
abb
ionen
plasma
siehe
entladung
phys
feld
bias
abschnitt
substrat
oberfläche
wobei
gleichung
entladungen
glühzone
etching
abhängigkeit
atome
deswegen
sputtern
elektrode
wesentlich
ätzrate
ergibt
deutlich
kathode
argon
ionisierung
dagegen
hohen
mfp
stark
größer
schild
strom
verteilung
druck
geschwindigkeit
verhältnis
negativen
proportional
negative
stöße
bedeutet
energien
appl
bereich
dichte
sputtering
Année:
1990
Langue:
german
Fichier:
PDF, 9.90 MB
Vos balises:
0
/
0
german, 1990
3
Die Schweissung von Torstählen
Springer-Verlag Wien
Dipl. Ing. Dr. techn. Stefan Soretz
,
Dipl. Ing. Rudolf Tinti (auth.)
abb
torstahl
proben
verwunden
verwundenen
schweißstelle
schweißsteile
stangen
daher
einfluß
geschweißt
schweißstellen
härte
zug
zustand
schweißung
schweißungen
stöße
verwindung
aufstauchung
ausgeführt
lind
stahl
zugfestigkeit
aufsicht
geschweißten
tabelle
glühzone
stauchdruck
verfahren
baustelle
bereich
knapp
probe
zirka
abgeschreckt
annähernd
anrisse
ausdruck
außerhalb
bzw
dpr
entspricht
fiir
folgende
gezeigt
infolge
reihe
schweißen
trennbrüche
Année:
1952
Langue:
german
Fichier:
PDF, 2.52 MB
Vos balises:
0
/
0
german, 1952
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